采用热纯水漂洗消除时间雾缺陷

• 作者: 熊诚雷 齐旭东
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: Si抛光片 IPA干燥器 时间雾 热纯水 全反射X射线荧光法
• 年，卷（期）: 2009,（9）
• 所属期刊栏目: 技术专栏(环保、洁净与清洗技术)
• 页码范围: 849-851
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2137字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2009.09.007

摘要

清洗工艺在抛光Si片加工中广泛使用,其纯水槽使用的纯水受区域和季节变化的影响,温度最大波动可以达到10℃以上.阐述了这种波动对清洗后Si片表面化学残留物浓度造成的影响,当冬季水温出现下降,Si片表面化学残留浓度上升,导致时间雾的出现.提出使用热纯水漂洗技术,通过纯水加热器对最终清洗机纯水溢流槽纯水进行加热,使纯水温度保持在稳定水平,在生产中可有效地消除时间雾缺陷并且将Si片表面化学残留浓度控制在良好的水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊诚雷		1	0	0.0	0.0
2	齐旭东		1	0	0.0	0.0