数字灰度光刻成像物镜设计

• 作者: 杜惊雷 王景全 郭小伟 陈铭勇 马延琴
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 无掩模光刻 反射光调制器件 光刻物镜 光学设计
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 光学设计
• 页码范围: 120-124
• 页数: 5页
• 分类号: O438
• 字数: 3309字
• 语种: 中文

摘要

为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数值孔径NA＝0.3,工作波长λ＝442 nm,倍率10×,分辨率R≤1.2 μm,焦深4 μm,且镜片数量少,光学加工、光学校装公差要求低.结果表明,该镜头完全满足数字灰度光刻高质量成像的需要.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马延琴	四川大学纳米光子技术研究所	6	45	5.0	6.0
2	杜惊雷	四川大学纳米光子技术研究所	77	611	13.0	18.0
3	陈铭勇	四川大学纳米光子技术研究所	8	78	6.0	8.0
4	郭小伟	四川大学纳米光子技术研究所	11	114	6.0	10.0
5	王景全	四川大学纳米光子技术研究所	5	26	3.0	5.0