原位漫反射红外光谱研究NO和NH3在CuO/γ-Al2O3催化剂上的吸附行为

• 作者: 向军 孙路石 王乐乐 石金明 胡松 苏胜 赵清森
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 原位漫反射红外光谱 选择性催化还原 CuO/γ-Al2O3 NH3 NO 吸附
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 能源和环境工程
• 页码范围: 444-449
• 页数: 6页
• 分类号: X701
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-1157.2009.02.027

摘要

利用原位漫反射红外光谱法在线研究NH3和NO在CuO/γ-Al2O3催化剂表面吸附和氧化的反应过程.NH3不仅能被吸附在L酸位,也能被吸附在B酸位.NH3氧化脱氢形成NH2物种是反应的中间步骤.NO和NO2以多种形态吸附在催化剂表面.O2存在条件下有利于吸附的NO物种被氧化成高价的NO2.暂态实验中,吸附NH3饱和的催化剂载体通入NO和O2后,共价吸附的NH3首先消失,而NH+4没有参加反应.吸附NO饱和的催化剂载体通入NH3和O2后,吸附态NO特征峰基本没有变化.选择性催化还原反应发生在吸附态NH3和气态NO之间,吸附态的NO及其氧化生成的亚硝基和硝基物种不参与SCR反应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵清森	华中科技大学煤燃烧国家重点实验室	13	146	8.0	12.0
2	向军	华中科技大学煤燃烧国家重点实验室	126	1432	22.0	31.0
3	石金明	华中科技大学煤燃烧国家重点实验室	13	179	8.0	13.0
4	胡松	华中科技大学煤燃烧国家重点实验室	105	1376	22.0	32.0
5	孙路石	华中科技大学煤燃烧国家重点实验室	98	1348	21.0	32.0
6	王乐乐	华中科技大学煤燃烧国家重点实验室	7	72	4.0	7.0