等离子喷涂氧化锆涂层封孔处理的研究现状

• 作者: 安雪川 张乾 张志彬 阎殿然 高国旗 高杨
• 来源期刊: 佛山陶瓷
• 关键词: 等离子喷涂 氧化锆涂层 封孔处理
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 知识讲座
• 页码范围: 37-41
• 页数: 5页
• 分类号: TQ17
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-8236.2009.03.012

摘要

本文分析了等离子喷涂氧化锆涂层中存在孔隙的原因,介绍了降低涂层孔隙率的方法,并指出了未来氧化锆涂层封孔技术的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎殿然		81	717	16.0	21.0
2	高杨		8	77	5.0	8.0
3	张志彬		6	50	4.0	6.0
4	高国旗		4	49	4.0	4.0
5	安雪川		4	18	3.0	4.0
6	张乾		6	25	4.0	4.0