脉冲偏压电弧离子镀C-N-Cr薄膜的成分、结构与性能

• 作者: 刘琪 李红凯 林国强 董闯
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: C-N-Cr薄膜 脉冲偏压 电弧离子镀 结构 性能
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 610-614
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3841字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2009.05.016

摘要

用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持偏压一致和工作气压恒定的条件下,控制不同氮(N)流量,在硬质合金基体上制备了不同成分的C-N-Cr薄膜.用SEM,XPS,GIXRD,激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明,随着N流量增加,薄膜中N含量先是线性增加然后趋于平缓,Cr含量先是基本保持不变然后线性减少.在N流量不超过20 mL/min时,薄膜保持较高的硬度(＞30 GPa)与弹性模量(＞500 GPa);当N流量超过20 mL/min时,薄膜硬度与弹性模量急剧下降,在N流量为100 mL/min时硬度与弹性模量仅为13.6与190.8 GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯	大连理工大学材料科学与工程学院	198	2023	23.0	34.0
2	林国强	大连理工大学物理与光电工程学院	59	562	13.0	21.0
3	李红凯	大连理工大学材料科学与工程学院	6	16	2.0	4.0
4	刘琪	大连理工大学材料科学与工程学院	2	12	1.0	2.0