Chemical mechanical polishing of freestanding GaN substrates

修向前; 刘战辉; 华雪梅; 张荣; 施毅; 谢自力; 郑有炓; 韩平; 颜怀跃

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Chemical mechanical polishing of freestanding GaN substrates

Chemical mechanical polishing of freestanding GaN substrates

作者：

修向前刘战辉华雪梅张荣施毅谢自力郑有炓韩平颜怀跃

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文献信息

篇名	Chemical mechanical polishing of freestanding GaN substrates
来源期刊	半导体学报	学科	工学
关键词
年，卷（期）	2009,（2）	所属期刊栏目
研究方向		页码范围	26-29
页数	4页	分类号	TN3
字数		语种	中文
DOI	10.1088/1674-4926/30121023003

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