CeO_2缓冲层热处理对Tl-2212薄膜超导特性的影响

• 作者: 何明 季鲁 左涛 张玉婷 方兰 李建映 游峰 谢清连 赵新杰 阎少林 黄国华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Tl-2212超导薄膜 缓冲层 AFM
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 1146-1153
• 页数: 8页
• 分类号: O484.1
• 字数: 6617字
• 语种: 中文

摘要

本文采用原子力显微镜(AFM)和XRD研究了生长在蓝宝石(11-02)基片上的CeO_2缓冲层在不同的退火温度和退火时间下表面形貌和相结构的变化,以及对Tl-2212薄膜超导特性的影响.AFM和XRD研究表明,CeO_2薄膜在流动氧环境中退火,表面形貌发生显著的变化;CeO_2薄膜在最佳条件下退火后,可获得原子级光滑表面,结晶质量明显提高.实验结果表明,缓冲层的结晶质量和表面粗糙度与Tl-2212薄膜的超导特性密切相关.在经过最佳条件退火后的CeO_2缓冲层上制备了厚度为500 nm无裂纹的Tl-2212超导薄膜,其临界转变温度(T_c)达到107 K,液氮温度下临界电流密度(J_c)为3.9 MA/cm~2(77 K,0 T),微波表面电阻(R_s)约为281 μΩ(77 K,10 GHz).