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Study on the degradation of NMOSFETs with ultra-thin gate oxide under channel hot electron stress at high temperature
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摘要：
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文献信息
| 篇名 | Study on the degradation of NMOSFETs with ultra-thin gate oxide under channel hot electron stress at high temperature | ||
| 来源期刊 | 中国物理B（英文版） | 学科 | |
| 关键词 | threshold voltage interface traps stress induced leakage current | ||
| 年，卷（期） | 2009,（12） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 5479-5484 | |
| 页数 | 6页 | 分类号 | |
| 字数 | 语种 | 英文 | |
| DOI | |||
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interface traps
stress induced leakage current
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中国物理B(英文版)
主办单位：
中国物理学会和中国科学院物理研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1674-1056
CN：
11-5639/O4
开本：
出版地：
北京市中关村中国科学院物理研究所内
邮发代号：
创刊时间：
语种：
eng
出版文献量（篇）
17050
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