Ni75AlxV25-x合金DO22到L12相变过程异相界面的结构及其迁移特征

• 作者: 卢艳丽 张明义 张静 王永欣 范晓丽 陈铮
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ni75AlxV25-x合金 相变 有序畴界 界面迁移 微观相场
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 页码范围: 930-936
• 页数: 7页
• 分类号: TG111.5
• 字数: 3923字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2009.08.006

摘要

界面结构保持不变,而界面(002)D//(002)L·1/2[100]迁移后形成界面(002)D//(002)L,两者交替出现;相变过程中,界面迁移总是沿着最优化的路径进行原子跃迁和替换,遵循跃迁原子数目最少、跃迁路径最短原则.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈铮	西北工业大学材料学院	206	808	13.0	18.0
5	王永欣	西北工业大学材料学院	129	485	10.0	15.0
6	张明义	西北工业大学材料学院	24	86	6.0	7.0
7	张静	西北工业大学材料学院	61	462	10.0	19.0
8	卢艳丽	西北工业大学材料学院	52	145	6.0	8.0
9	范晓丽	西北工业大学材料学院	12	47	5.0	6.0