电沉积方法制备纳米晶Ni-W合金工艺研究

• 作者: 吴一 吴化 韩双
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-W合金 纳米晶 电沉积
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 65-69
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 5439字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2009.02.023

摘要

为了进一步优化镀液成分和工艺参数,为制备W含量可在较大范围内变化的块状纳米晶Ni-W合金提供依据,采用不含任何氨根离子(NH-+4)的镀液通过电沉积方法制备纳米晶Ni-W合金镀层.采用XRD、SEM和EDS对镀层的结构、形貌和成分进行观察和分析.结果表明:电沉积过程中电流密度、电源类型、pH值及搅拌方式对镀层的W含量都会产生较大的影响.试验中所得到的Ni-W合金镀层的W含量为2.15%~30.31%(质量分数),其结构均为W溶于Ni晶格所形成的置换式固溶体,平均晶粒尺寸为14~19nm;随着镀层中W含量的增加,镀层的显微硬度也随之逐渐提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴一	空军航空大学基础部	9	27	3.0	5.0
2	吴化	长春工业大学材料科学与工程学院	66	400	11.0	15.0
3	韩双	长春工业大学材料科学与工程学院	1	8	1.0	1.0