超大规模集成电路中基于OCV的时序收敛方法

• 作者: 张玥 林平分 陈祺
• 来源期刊: 电子科技
• 学科: 工学
• 关键词: 深亚微米 片上工艺偏差 时序收敛 建模
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 电子·电路
• 页码范围: 30-33
• 页数: 4页
• 分类号: TN47
• 字数: 3209字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7820.2009.07.009

摘要

当芯片设计进入深亚微米,片上工艺偏差(OCV)造成的时序不确定性,成为超大规模集成电路时序收敛中的关键问题,单纯使用传统时序分析方法,已不能完全达到时序收敛的要求.文中首先介绍了静态时序分析方法,阐述了深亚微米下OCV分析对时序收敛的重要性,并提出对OCV问题建模和分析的方法.最后通过一个具体的设计实例,运用基于OCV的时序分析方法达到时序收敛.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张玥	北京工业大学嵌入式系统重点实验室	12	80	6.0	8.0
2	林平分	北京工业大学嵌入式系统重点实验室	92	254	8.0	12.0
3	陈祺	北京工业大学嵌入式系统重点实验室	1	16	1.0	1.0