蓝宝石衬底表面粗糙度的研究

• 作者: 刘效岩 刘玉岭 孙业林 陈婷 魏恒
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 蓝宝石 衬底 化学机械抛光 粗糙度 去除速率
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 技术专栏
• 页码范围: 741-744
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2702字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2009.08.006

摘要

简述了纳米级超光滑蓝宝石衬底的用途及发展前景,以SiO2为磨料并且加入了表面活性剂和螯合剂的碱性抛光液做了抛光实验.分析了表面粗糙度与抛光液pH值的关系,比较了不同压力对粗糙度的影响,研究了粗糙度随流量的变化规律;以原子力显微镜为主要检测工具,找到了制备超光滑蓝宝石衬底最佳CMP工艺,在保证抛光速率的同时使表面质量达到超光滑表面的要求,有效地降低了成本.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学微电子技术与材料研究所	263	1540	17.0	22.0
2	刘效岩	河北工业大学微电子技术与材料研究所	20	133	8.0	10.0
3	魏恒	河北工业大学微电子技术与材料研究所	3	17	2.0	3.0
4	陈婷	河北工业大学微电子技术与材料研究所	3	23	2.0	3.0
5	孙业林	河北工业大学微电子技术与材料研究所	3	18	2.0	3.0