基底温度对ZnO/Cu/ZnO透明导电膜性能的影响

• 作者: 刘建军 李爱丽 石亮 闫金良
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 透明导电膜 多层膜 光学性质 电学性质
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 1227-1230
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2442字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Cu靶的方法在不同基底温度下制备了ZnO/Cu/ZnO多层膜.用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外可见分光光度计和四探针测试仪对样品的性能进行了表征.结果表明,随着基底温度的升高,ZnO层c轴择优取向明显,结晶程度变好,Cu层的结晶性先变好后逐渐变差;多层膜表面均方根粗糙度随基底温度的升高而增加;光学透过率随基底温度的升高逐渐增大,基底温度为300 ℃时最大透过率接近90%;面电阻随基底温度的升高逐渐增加,最小面电阻为12.4 Ω/□.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫金良	鲁东大学物理与电子工程学院	25	100	5.0	8.0
2	李爱丽	鲁东大学物理与电子工程学院	6	25	4.0	4.0
3	石亮	鲁东大学物理与电子工程学院	4	12	3.0	3.0
4	刘建军	鲁东大学物理与电子工程学院	12	66	4.0	8.0