气囊抛光工艺参数的正交实验分析

• 作者: 姚英学 宋剑锋 谢大纲 高波
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 气囊抛光 正交实验 材料去除率 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 光学工艺
• 页码范围: 315-318
• 页数: 4页
• 分类号: TH706
• 字数: 4006字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2009.02.003

摘要

针对平面光学零件,以抛光去除率和表面粗糙度为考核指标,应用正交试验法分析了气囊抛光过程中的主要工艺参数,包括抛光工具气囊的压缩量、气囊转速、气囊内部充气压力、抛光液的浓度对抛光去除效率和表面粗糙度的影响规律.结合气囊抛光的抛光机理对其进行了分析,根据实验结果对工艺参数进行了优化,并进行了综合参数的气囊抛光加工实验,获得了超精密光滑的表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢大纲	哈尔滨工业大学机电工程学院	38	652	16.0	24.0
2	宋剑锋	哈尔滨工业大学机电工程学院	11	116	6.0	10.0
3	姚英学	哈尔滨工业大学机电工程学院	136	2556	28.0	41.0
4	高波	北京印刷学院印刷与包装工程学院	27	140	6.0	11.0