铝铜合金靶材的微观结构对溅射沉积性能的影响

• 作者: 李洪宾 江轩 王欣平
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 铝铜合金靶材 微观结构 沉积速率 沉积效率
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 442-445
• 页数: 4页
• 分类号: TB304
• 字数: 2731字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2009.03.030

摘要

磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜,节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数月的晶圆.通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的品粒取向和品粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响.实验结果显示,溅射速率与靶材的原子密排度成正比关系,靶材的原子密排度受品粒取向和晶粒尺寸的影响,有特定的变化范围,因此溅射速率也只在一个范围内变化.沉积速率和沉积效率受靶材表面窄间内原子密排方向分布的影响,原子密排方向分布则由靶材的晶粒取向和晶粒尺寸决定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王欣平		15	69	5.0	8.0
2	江轩		7	40	3.0	6.0
3	李洪宾		2	23	2.0	2.0