脉冲激光沉积法制备VO_2热致变色薄膜研究进展

• 作者: 俞晓静 张伟 张虎 朱慧群 李毅 王海方 黄毅泽
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 脉冲激光沉积 VO_2 薄膜 制备 掺杂
• 年，卷（期）: 2009,（12）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 83-88
• 页数: 6页
• 分类号: TB43|TN215
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2009.12.020

摘要

基于半导体和金属间的相变特性,伴随着温度、电场、压力的变化,具有相关智能特性的VO_2薄膜材料具有较大的应用潜力.本文主要阐述脉冲激光沉积技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍脉冲激光沉积制备VO_2薄膜材料的工艺参数和国内外研究进展,并与几种常规制备方法进行对比,给出脉冲激光沉积掺杂对VO_2薄膜材料特性的影响,以及采用脉冲激光沉积制备VO_2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备具有智能特性的VO_2薄膜材料存在的问题和发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李毅	上海理工大学光学与电子信息工程学院	33	114	6.0	9.0
3	俞晓静	上海理工大学光学与电子信息工程学院	7	43	3.0	6.0
4	张伟	上海理工大学光学与电子信息工程学院	47	196	8.0	13.0
5	黄毅泽	上海理工大学光学与电子信息工程学院	9	36	4.0	6.0
8	王海方	上海理工大学光学与电子信息工程学院	6	34	3.0	5.0
9	张虎	上海理工大学光学与电子信息工程学院	6	30	3.0	5.0