高技术陶瓷材料点缺陷化学和物理

• 作者: 周志刚 唐子龙
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 点缺陷 氧空位 Brouwer-Krōger-Vink线图 点缺陷工程 化学键 高技术陶瓷
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 特邀评论
• 页码范围: 417-426
• 页数: 10页
• 分类号: TQ174
• 字数: 7955字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1077.2009.00417

摘要

无机材料点缺陷的研究具有基础性和前沿性特色,是当前高技术陶瓷发展中的一个新兴的技术支撑,具有诱人的应用前景,甚为世人瞩目.点缺陷结构与高技术陶瓷的物理和化学性能密切相关.本文就点缺陷能量、生成、缔合、点缺陷和界面间的互作用等化学和物理机制,点缺陷的电子学以及点缺陷工程研究中的最新进展等方面进行了综述.本文还就点缺陷对改善高技术陶瓷的电、磁、光、力和生物等性能所提供的美好前景进行了评述,以期有助于今后我国在无机材料领域原创性和开拓性研究的深入发展.