O3、H2O2/O3及UV/O3在焦化废水深度处理中的应用

• 作者: 刘金泉 李天增 王发珍 胡晓辉 陈伟山
• 来源期刊: 环境工程学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: O2 H2O2/O3 UV/O3 焦化废水 深度处理
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 水污染防治
• 页码范围: 501-505
• 页数: 5页
• 分类号: X703.1
• 字数: 4813字
• 语种: 中文

摘要

采用O3、H2O2/O3和UV/O3等高级氧化技术(AOPs)对某焦化公司的生化出水进行深度处理,考察了O3与废水的接触时间、溶液pH、反应温度等因素对废水COD去除率的影响,确定出O3氧化反应的最佳工艺参数为:接触时间40 min,溶液pH 8.5,反应温度25℃,此条件下废水COD及UV254的去除率最高可达47.14%和73.47%;H2O2/O3及UV/O3两种组合工艺对焦化废水COD及UV254的去除率均有一定程度的提高,但H2O2/O3系统的运行效果取决于H2O2的投加量.研究结论表明,单纯采用COD作为评价指标,并不能准确反映出O3系列AOPs对焦化废水中有机污染物的降解作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王发珍		6	152	6.0	6.0
2	刘金泉		8	127	5.0	8.0
3	李天增		15	217	10.0	14.0
4	陈伟山		3	65	3.0	3.0
5	胡晓辉		2	86	2.0	2.0