GZO/Ag/GZO多层薄膜制备、结构与光电特性的研究

• 作者: 姜丽莉 宋淑梅 张之圣 李延辉 杨田林 辛艳青 韩圣浩
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: GZO/Ag/GZO 多层膜 溅射方法 透明导电膜
• 年，卷（期）: 2009,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1767-1769
• 页数: 3页
• 分类号: TK513.2
• 字数: 2677字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2009.11.001

摘要

采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的GZO/Ag/GZO(ZnO掺杂Ga_2O_3简称GZO)多层薄膜.X射线衍射谱表明GZO/Ag/GZO多层薄膜是多晶膜,GZO层具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向;Ag层是立方结构,具有(111)取向.在GZO层厚度一定的情况下,研究了Ag层厚度的变化对多层膜结构以及光电特性的影响.研究发现,当Ag层厚度为10nm时,3层膜的电阻率为9×10~(-5)Ω·cm,在可见光范围内平均透过率达到89.7%,薄膜对应的品质因子数值为3.4×10~(-2)Ω~(-1).