硅基表面无形貌改变的硫酸/过氧化氢氧化清洗

• 作者: 刘善堂 刘宏芳 文路 毛强强
• 来源期刊: 武汉工程大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅基 化学清洗 表面形貌
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.1+2
• 字数: 2449字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2009.05.001

摘要

提出了一种利用硫酸/过氧化氢溶液氧化清洗硅基的方法.硅片经超声预清洗后,放入硫酸/过氧化氢溶液中,80 ℃下氧化清洗其表面的污染物.通过接触角检测,表征了清洗前后硅基表面的亲水性变化.通过原子力显微镜(AFM)表征了经硫酸/过氧化氢溶液清洗后硅基的表面形貌.结果显示,经硫酸/过氧化氢溶液亲水化清洗30 min后的硅基表面的接触角为7.3 °,显示出很强的亲水性,其表面均方根粗糙度(RMS)仅为0.03 nm.因此,硫酸/过氧化氢氧化清洗法是一种硅基表面无形貌改变的亲水化清洗方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘宏芳	华中科技大学化学与化工学院材料化学与服务失效湖北省重点实验室	58	520	13.0	20.0
2	毛强强		1	7	1.0	1.0
3	文路		1	7	1.0	1.0