磁场非平衡度对Cr镀层晶体生长过程的影响

• 作者: 文晓斌 李显 梁戈 蒋百灵
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控管非平衡度 表面形貌 粗糙度 晶体结构
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 693-699
• 页数: 7页
• 分类号: TG144|TB43
• 字数: 4685字
• 语种: 中文

摘要

采用扫描电子显微镜、表面粗糙度测试仪及X射线衍射仪分析了直流、单靶磁控溅射条件下磁控管非平衡度对Cr镀层生长过程的影响.结果表明:磁控管非平衡度的改变显著影响着整个沉积过程中镀层的表面形貌、表面粗糙度以及镀层晶体结构.镀层沉积各时间段内均由不同的影响因素主导其生长过程,斜向沉积和自遮蔽效应是柱状晶斜向生长的主要原因.同一沉积时间下,镀层粗糙度随磁控管非衡度的增大而增大.随着沉积速率的增大,镀层晶体经历了由随机生长向择优生长的转变过程且镀层晶体发生了由密排面Cr(110)向次密排面Cr(200)择优生长的转变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	梁戈	西安理工大学材料科学与工程学院	16	229	9.0	15.0
3	文晓斌	西安理工大学材料科学与工程学院	9	100	4.0	9.0
4	李显	西安理工大学材料科学与工程学院	4	11	2.0	3.0