悬浮型光催化纳滤膜反应器处理H酸溶液工艺中操作压力变化的机理研究:实验部分

• 作者: 刘军 高冠道
• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 工学
• 关键词: 光催化氧化 纳滤膜分离 耦合工艺 H酸 过膜压力 变化机理
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 1-4,36
• 页数: 5页
• 分类号: TQ032.4|TQ051.8
• 字数: 4319字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1124.2009.05.001

摘要

首次通过系列黑暗条件下的膜分离空白试验对悬浮型光催化纳滤膜反应器中耦合分离膜操作压力的变化机理进行研究.为了从根本上揭示悬浮型光催化纳滤膜反应器中引起耦合分离膜操作压力规律性变化以及不同初始操作压力条件下导致变化规律明显差异性的根本原因,分别进行三组黑暗条件下的膜分离对比试验,考察不同膜分离过程中膜分离操作压力的变化规律、变化幅度和变化速度.结果表明,在不同的初始操作压力条件下,由于待分离的污染物种类、性质、组分和浓度的差异导致纳滤膜分离操作压力的变化规律存在根本性变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高冠道	南开大学环境污染过程与基准教育部重点实验室	13	111	6.0	10.0
2	刘军		13	18	2.0	4.0