反应烧结碳化硅反射镜表面改性技术

• 作者: 张学军 徐领娣 王旭
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 反应烧结碳化硅 表面改性 表面粗糙度 离子辅助沉积碳化硅 超光滑表面
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 先进光学制造技术
• 页码范围: 120-124
• 页数: 5页
• 分类号: TQL71.6
• 字数: 3555字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2009.01.023

摘要

为了解决新型优质光学材料-反应烧结碳化硅(RB-SiC)由SiC和要Si两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了反射镜表面改性方案并且从加工工艺的角度介绍了改性工艺流程.以空间反射镜的使用环境为依据,对几种适用的RB-SiC改性材料进行了较为全面的分析比较.本文采用新的离子辅助沉积碳化硅(LAD-SiC)材料为改性层,对改性层的表面形貌及部分性能进行了测试,证明IAD-siC膜层能够满足改性要求.在厚度为(6±0.5)μm的IAD-SiC膜层表面进行了一系列抛光工艺实验,文中给出了超光滑表面抛光工艺参数和实验结果.对改性层进行精抛光后,100 mm口径样片的面形精度为0.033X RMS(λ=632.8 nm),表面粗糙度优于0.5mmRMS.结果表明,本方法不仅可以很大程度提高元件表面质量,还可以进一步精修面形,为超光滑,低散射RB-Sic反射镜的加工提供了一条可行途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张学军	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	124	1634	25.0	33.0
2	王旭	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	96	1243	18.0	33.0
6	徐领娣	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	3	48	3.0	3.0