Ni掺杂ZnO薄膜的结构与光学特性研究

• 作者: 兰伟 刘雪芹 唐国梅 曹文磊 王印月
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO:Ni薄膜 结构特性 光学带隙 光致发光
• 年，卷（期）: 2009,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 8501-8505
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.12.059

摘要

使用射频磁控溅射法成功制备了不同掺杂浓度(0-7at.%)的ZnO:Ni薄膜.X射线衍射的良θ-2θ和摇摆曲线扫描结果表明,5at.%Ni掺杂ZnO薄膜具有沿c轴方向最佳的择优取向生长特性,(002)衍射峰向大角度方向移动揭示了Ni杂质被掺人ZnO晶格中占据zn位.ZnO:Ni薄膜具有较好的可见光透明特性,拟合发现薄膜的光学带隙随Ni掺杂量的增加由3.272 eV线性降低到3.253 eV.未掺杂薄膜在550 nm处呈现出一个绿色发光峰,掺入Ni杂质后薄膜主要表现了以430 nm为中心的蓝色发光,分析认为它们分别源于薄膜中O空位和Zn填隙缺陷发光.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王印月	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	39	567	15.0	23.0
2	唐国梅	西北民族大学计算机科学与信息工程学院	9	50	4.0	7.0
3	刘雪芹	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	19	195	8.0	13.0
4	兰伟	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	15	168	6.0	12.0
5	曹文磊	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	3	7	1.0	2.0