射频溅射功率对ZnO透明导电薄膜光电性能的影响

• 作者: 张光春 朱拓 李果华 王永谦 陈肖静
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 ZnO薄膜 沉积速率 光电特性 HIT太阳电池
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 页码范围: 354-357
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2747字
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射技术在不同溅射功率下制备了ZnO薄膜.研究了薄膜的沉积速率、光电特性以及不同功率条件下制备的ZnO薄膜对HIT电池开路电压的影响.结果表明:在溅射功率为200 W时制备的薄膜,具有良好的导电性和光透过性;将其应用到HIT电池中,得到的开路电压最高.该研究对提高HIT电池性能具有一定的参考意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱拓	江南大学理学院	68	553	13.0	19.0
3	李果华	江南大学理学院	30	122	6.0	10.0
5	张光春		2	32	2.0	2.0
8	王永谦	尚德太阳能电力有限公司研发中心	2	20	1.0	2.0
9	陈肖静	江南大学理学院	2	29	2.0	2.0