新型非离子型聚合物对胶体SiO2垢抑制作用的研究

• 作者: 张冰如 弯昭锋 李风亭
• 来源期刊: 水处理技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硅垢 有机膦阻垢剂 非离子型聚合物
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 27-30,94
• 页数: 5页
• 分类号: TQ085+.4
• 字数: 2557字
• 语种: 中文

摘要

工业水处理中,原水中硅含量过高会导致胶体SiO2垢的形成,硅垢一旦形成便难以去除,给工业生产带来许多隐患.研究了一种新型非离子聚合物TJ-SI0II对胶体SiO2垢沉积的影响,并与传统有机膦阻垢剂(包括PBTTC、EDTMP、HEDP、DTPMP、ATMP、PAPEMP和HDTMP)进行对比试验,结果表明,TJ-SI0Ⅱ是一种优良的硅垢阻垢剂,而传统有机膦药剂对胶体SiO2垢沉积基本无抑制作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张冰如	同济大学环境科学与工程学院	55	1127	19.0	32.0
5	李风亭	同济大学环境科学与工程学院	127	1720	22.0	35.0
9	弯昭锋	同济大学环境科学与工程学院	1	13	1.0	1.0