壳熔法生长技术及其应用

• 作者: 何雪梅 展宗贵 张道标 徐家跃
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 壳熔法 立方氧化锆 晶体生长
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 101-106
• 页数: 6页
• 分类号: O78
• 字数: 5077字
• 语种: 中文

摘要

壳熔法是利用高频感应电源加热使原料内部熔化并由水冷系统在其外围形成硬壳作为坩埚的一种晶体生长技术,特别适合于高温和难熔晶体的生长.本文介绍了壳熔法晶体生长原理和特点,综述了壳熔法生长立方氧化锆晶体的研究进展,探讨了壳熔法的其它工业应用,包括高温合金的铸造、核废料的处理、多晶硅的制备等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐家跃	上海应用技术学院材料工程系	47	396	12.0	17.0
5	张道标	中国科学院上海硅酸盐研究所	3	15	3.0	3.0
6	展宗贵	中国科学院上海硅酸盐研究所	1	5	1.0	1.0
7	何雪梅	中国科学院上海硅酸盐研究所	2	11	2.0	2.0