脉冲激光沉积PLD技术及其应用

• 作者: 吕珂
• 来源期刊: 科技广场
• 学科: 工学
• 关键词: PLD 薄膜制备
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 应用与开发
• 页码范围: 131-133
• 页数: 3页
• 分类号: TN40
• 字数: 2183字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4792.2009.05.047

摘要

本文综述了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的机理、特点及薄膜生长的主要过程,并介绍了其在制备半导体、高温超导、类金刚石、生物陶瓷薄膜等方面的应用.大量研究表明,脉冲激光沉积技术是目前最好的制备薄膜的方法之一.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕珂	华东交通大学基础学院物理系	11	32	3.0	5.0