电沉积条件对钴-锰合金结构和磁性能的影响

• 作者: 洪亮亮 涂满钰 王森林
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 电沉积 钴-锰合金 磁性能 镀层
• 年，卷（期）: 2009,（9）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1060-1064
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 3955字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2009.09.013

摘要

以柠檬酸钠为络合剂、以硼酸为缓冲剂的酸性硫酸盐镀液中电沉积Co-Mn合金,循环伏安曲线表明,Co-Mn的起始共沉积电位约-1.282 V(vs.Hg-Hg2SO4,Sat.K2SO4). 采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS) 、X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究了沉积条件对镀层结构和磁性能的影响. 结果表明,Co-Mn镀层的组成受沉积条件影响较大;在镀液pH=4.0时,随着阴极电流密度从10×10-3 A/cm2增加至40×10-3 A/cm2,镀层中锰摩尔分数从0.3%增大至6.6%;镀层结构由hcp的固溶体转为fcc的固溶体;随着镀层中锰含量增加,膜的饱和磁化强度开始增大,然后降低,最大饱和磁化强度为1 926.0 kA/m,膜的矫顽力在31.6~33.9 kA/m范围.