记录方式对光致聚合物中全息光栅形成过程的影响

• 作者: 宋伟 张韬 翟千里 陶世荃
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 全息存储 光致聚合物 全息光栅
• 年，卷（期）: 2009,（12）
• 所属期刊栏目: 光纤光学与光通信
• 页码范围: 3209-3213
• 页数: 5页
• 分类号: O438.1
• 字数: 3032字
• 语种: 中文

摘要

根据光致聚合物记录机理,研究了不同记录方式对光栅衍射效率的影响.对已有的光致聚合物光栅形成的一阶扩散模型进行简化,求解出全息曝光、暗增长、均匀后曝光过程对应的折射率调制度的解析式.应用所得解析结果,对三种记录方式在不同光强下的折射率调制度动态进行数值模拟.采用蓝敏光致聚合物,分别在4 mW/cm~2和2 mW/cm~2光强下应用不同方式记录光栅,结果表明:如果曝光光强较高,暗增长的记录方式将获得相对高的饱和折射率调制度,而均匀后曝光会加速达到饱和的进程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶世荃	北京工业大学应用数理学院	61	333	11.0	14.0
2	翟千里	北京工业大学应用数理学院	3	7	2.0	2.0
3	张韬	北京工业大学应用数理学院	3	7	2.0	2.0
4	宋伟	北京工业大学应用数理学院	5	10	2.0	3.0