栽培稻叶片近红外光纤漫反射光谱的抗旱性鉴定分析

• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 化学
• 关键词: 栽培稻 近红外 抗旱性
• 年，卷（期）: 2009,（10）
• 页码范围: 2646-2650
• 页数: 5页
• 分类号: O657.3
• 字数: 4429字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3964/j.issn.1000-0593(2009)10-2646-05

摘要

选用了来源于不同国家和地区的30个抗旱性强弱不同的栽培稻品种,其中有传统旱稻4个,改良旱稻18个,敏旱突变体材料2个,典型水稻4个,耐旱水稻2个,分别在水田和旱地下种植得到的叶片近红外漫反射光谱为对象,进行了抗旱性鉴定分析研究,结果表明:采用多个叶片测量得到的平均光谱数据,选择4 500～7 500 cm-1作为有效的分析谱区,应用一阶导数和散射校正结合进行光谱预处理等方法,适合建立旱地种植下栽培稻叶片的旱地产量等模型.同时研究表明:孕穗中后期旱地叶片近红外光谱与旱地产量、抗旱指数之间建立模型的结果要优于孕穗前期,其模型交叉验证结果的相关系数可达0.8左右.而在水田种植条件下得到的叶片近红外光谱与水田产量、抗旱指数之间模型交叉验证结果相关性较弱,从叶片叶绿素、含水量等主要生理生化参数与产量、抗旱指数之间相关关系角度,对水旱田下两类模型的性能差异进行了农学解释.