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DC~20 GHz宽带单片数控衰减器
DC~20 GHz宽带单片数控衰减器
作者:
刘志军
吴洪江
方园
高学邦
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
宽带
衰减附加相移
微波单片集成电路
数控衰减器
电磁仿真
摘要:
介绍了五位数控衰减器单片电路的主要技术指标和设计方法.电路设计基于ADS微波设计环境,采用GaAs PHEMT工艺技术实现.利用版图电磁仿真验证技术,实现了全态附加相移小的目标.工作频率为DC~20 GHz,全态衰减附加相移小于等于±3°,驻波比≤1.5:1.通过设计结果和测试结果对比,表明本单片的设计方法可行.最终,单片电路流片一次成功,实现了设计目标.电路尺寸为2.7 mm × 1.4 mm×0.1 mm,控制电压为0 V和-5 V,无直流功耗.
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一种采用砷化镓pHEMT工艺的超宽带DC-40 GHz 4位单片数字衰减器
超宽带
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pHEMT
数字衰减器
内容分析
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相关学者/机构
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文献信息
篇名
DC~20 GHz宽带单片数控衰减器
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
宽带
衰减附加相移
微波单片集成电路
数控衰减器
电磁仿真
年,卷(期)
2009,(3)
所属期刊栏目
集成电路设计与开发
研究方向
页码范围
287-290
页数
4页
分类号
TN715
字数
1710字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-353X.2009.03.023
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
吴洪江
中国电子科技集团公司第十三研究所
49
225
8.0
10.0
2
高学邦
中国电子科技集团公司第十三研究所
38
175
8.0
9.0
3
方园
中国电子科技集团公司第十三研究所
11
23
4.0
4.0
4
刘志军
中国电子科技集团公司第十三研究所
9
45
5.0
6.0
传播情况
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(4)
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参考文献(1)
二级参考文献(0)
1994(1)
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二级参考文献(0)
2009(1)
参考文献(0)
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二级引证文献(0)
2009(1)
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2010(1)
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二级引证文献(2)
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二级引证文献(0)
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2018(1)
引证文献(0)
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2019(1)
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二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
宽带
衰减附加相移
微波单片集成电路
数控衰减器
电磁仿真
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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