半导体行业含氟废水处理的研究

• 作者: Chen Hua Zeng Jia Zhou Qin 童浩
• 来源期刊: 环境科学与管理
• 学科: 地球科学
• 关键词: 半导体行业 含氟废水 化学沉淀法 混凝沉淀法 pH值
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 环境防治
• 页码范围: 75-77,82
• 页数: 4页
• 分类号: X703.1
• 字数: 2605字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1212.2009.07.021

摘要

在过去几年,中国的半导体工业得到了迅速的发展,同时也带来了新的环境问题,其中尤以含氟废水的危害最为严重.文章详细介绍了某半导体企业含氟废水处理站,包括含氟废水的来源,危害,常用的处理方法,实验情况,本工程采用的工艺流程和运行情况等.实验数据和工程运行情况都证明,pH值为7.5～8.5时,以化学沉淀法和混凝沉淀法处理含氟废水效果最好.实践证明利用强酸强碱调节废水pH值后,采用CaCl2处理含氟废水,具有操作简便和处理费用低等优点,同时针对CaF2沉淀对处理设备的影响提出了有效措施.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	童浩		2	24	2.0	2.0
2	Zeng Jia		1	22	1.0	1.0
3	Zhou Qin		1	22	1.0	1.0
4	Chen Hua		1	22	1.0	1.0