热烧结及其退火工艺对玻璃衬底印刷碳纳米管薄膜场发射的影响

• 作者: 张秀霞 魏舒怡
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管 丝网印刷 场致发射 热烧结 退火后处理
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 19-21,31
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 字数: 1266字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.04.006

摘要

通过实验测试研究了热烧结和退火后处理工艺对玻璃衬底碳纳米管薄膜(CNTF)场发射特性的影响,得到了低成本丝网印刷方法在玻璃衬底制备CNTF阴极的热烧结曲线, 250min热烧结过程包括2个升温阶段和3个恒温阶段,热烧结的最高温度为613K.结果表明,623K、15min是样品退火后处理的最佳条件,适宜的退火后处理使CNTF场发射趋于均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张秀霞	北方民族大学电气信息工程学院	23	57	4.0	6.0
2	魏舒怡		5	12	3.0	3.0