氮氧化硅薄膜的研究进展

• 作者: 张宗波 徐彩虹 罗永明
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮氧化硅 薄膜材料 制备方法 应用
• 年，卷（期）: 2009,（21）
• 所属期刊栏目: 本期专题:薄膜材料
• 页码范围: 110-114
• 页数: 5页
• 分类号: TB3
• 字数: 5225字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.21.025

摘要

氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学、介电及光学性能,在微电子、光学器件等方面有着重要应用.其主要制备方法包括化学气相沉积、溅射、直接氮化/氧化及离子植入.综述了该类材料的制备方法和应用研究进展,并指出了制备方法和应用研究的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗永明	中国科学院化学研究所	24	120	7.0	9.0
2	徐彩虹	中国科学院化学研究所	54	243	8.0	11.0
3	张宗波	中国科学院化学研究所	27	126	7.0	9.0