硅基低维红外探测薄膜材料的研究概况

• 作者: 杨宇 王茺
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅 量子阱 量子点
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 特邀稿
• 页码范围: 5-8,12
• 页数: 5页
• 分类号: TN386|TN401
• 字数: 6227字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.07.002

摘要

Si基探测器与硅读出电路的单片集成不仅使光电芯片在性能上得到重要改善,还可极大地降低成本.在对量子阱、量子点原理描述的基础上,综述了它们应用于薄膜红外探测材料的研究进展,提出了近期工作的重点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨宇	云南大学光电信息材料研究所	101	377	9.0	12.0
2	王茺	云南大学光电信息材料研究所	50	148	7.0	8.0