硅基图案化HfO2表面微结构的制备和表征

• 作者: 博海洋 夏傲 苗鸿雁 谈国强 贺中亮
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 微图案 光刻印 HfO2微结构
• 年，卷（期）: 2009,（10）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1660-1662
• 页数: 3页
• 分类号: TB43|TQ134.1
• 字数: 2175字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2009.10.021

摘要

结合光刻印技术和HfO2液相自组装沉积成膜技术,在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的HfO2薄膜,该硅基图案化HfO2微结构近来在工业界特别是微电子领域引起极度的关注.X射线衍射(XRD)与扫描电镜(SEM)显示,在图案区域成功制备了HfO2薄膜,EDS能谱测试显示了图案区域的HfO2薄膜的化学组成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苗鸿雁	陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室	99	732	13.0	20.0
2	谈国强	陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室	107	640	12.0	18.0
3	贺中亮	陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室	16	67	6.0	7.0
4	夏傲	陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室	61	325	9.0	14.0
5	博海洋	陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室	12	73	4.0	8.0