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蒸发速率对ITO光学常数的影响
蒸发速率对ITO光学常数的影响
作者:
徐晨
朱彦旭
李天璘
沈光地
高国
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
ITO
椭偏仪
电子束蒸发法
蒸发速率
摘要:
由于ITO具有复杂的微观结构和吸收机制,很难准确测量出它的光学常数.采用变入射角光度椭偏仪(VASE)建立了一套简单的拟合模型,成功拟合出ITO光学常数在可见光范围内随波长的变化关系.并在此基础上分析了电子束蒸发法蒸发速率对ITO薄膜光学常数的影响.根据Hall效应测量了ITO在不同蒸发速率下的载流子浓度,分析了ITO光学常数随蒸发速率增加而增加的机理.
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篇名
蒸发速率对ITO光学常数的影响
来源期刊
功能材料
学科
工学
关键词
ITO
椭偏仪
电子束蒸发法
蒸发速率
年,卷(期)
2009,(1)
所属期刊栏目
研究与开发
研究方向
页码范围
56-59
页数
4页
分类号
TN304
字数
2285字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1001-9731.2009.01.016
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
徐晨
北京工业大学电控学院光电子技术实验室
63
295
9.0
13.0
2
沈光地
北京工业大学电控学院光电子技术实验室
192
1444
18.0
29.0
3
高国
北京工业大学电控学院光电子技术实验室
22
459
8.0
21.0
4
朱彦旭
北京工业大学电控学院光电子技术实验室
21
79
6.0
8.0
5
李天璘
北京工业大学电控学院光电子技术实验室
1
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二级引证文献(0)
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节点文献
ITO
椭偏仪
电子束蒸发法
蒸发速率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
主办单位:
重庆材料研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-9731
CN:
50-1099/TH
开本:
16开
出版地:
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
邮发代号:
78-6
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
总被引数(次)
91048
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:
The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:
http://www.863.org.cn
项目类型:
重点项目
学科类型:
信息技术
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