含多氰基的有机非线性光学材料合成研究进展

• 作者: 唐先忠 唐翔 赵波 闫裔超
• 来源期刊: 材料导报
• 关键词: 有机非线性光学材料 合成 多氰基 共轭链
• 年，卷（期）: 2009,（17）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 字数: 2322字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.17.004

摘要

含多氰基的有机非线性光学材料是近年来有机非线性光学材料研究的热点.这类材料的合成研究呈现出共轭链由短到长,分子由简单到复杂,由一维到多维的趋势.随着研究技术的成熟,其在器件应用方面的改性也受到重视,目前,很多有机非线性光学材料都已被制作成器件而得到应用.综述了这类材料的合成研究情况,探讨了具有高电光活性和低光损耗的非线性光学材料的合成技术,展望了今后有机非线性光学材料分子设计合成可能的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫裔超	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	7	19	2.0	4.0
2	唐先忠	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	53	415	9.0	18.0
3	唐翔	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	18	35	4.0	5.0
4	赵波	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	10	91	5.0	9.0