高陡度非球面光学元件加工技术研究

• 作者: 左巍 赵广木 辛科
• 来源期刊: 现代制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: 高陡度非球面 磁流变抛光 内凹面抛光
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-4,22
• 页数: 5页
• 分类号: TH7
• 字数: 4460字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3133.2009.07.001

摘要

高陡度非球面光学元件因形状特点,其毛坯成形、研磨和抛光等加工技术难度远高于传统的球面元件.其加工过程中根据不同材料和不同加工阶段分别应用化学气相沉积(CVD)精密复制方法、单点金刚石车削(DPT)、金刚石磨削、确定性微研磨(DMG)、磁流变抛光(MRF)和射流抛光等先进制造技术.分析高陡度非球面光学元件的形状特征,重点讨论高陡度非球面光学元件的加工技术及关键工艺,针对凹面抛光加工等技术难点做出工艺分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	辛科	清华大学精密仪器与机械学系	5	18	3.0	4.0
2	赵广木	清华大学精密仪器与机械学系	16	205	7.0	14.0
3	左巍	清华大学精密仪器与机械学系	6	45	4.0	6.0