等离子体沉积非晶SiOx:H纳米膜层改性医用NiTi合金研究

• 作者: 俞青松 唐朝君 张勤 沈阳 王贵学 葛淑萍
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 医学
• 关键词: 等离子体沉积SiOx:H纳米膜层 医用NiTi合金 表面改性
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1372-1375,1378
• 页数: 5页
• 分类号: R318
• 字数: 3812字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2009.08.038

摘要

采用等离子体沉积技术在医用NiTi合金表面制备非晶SiOx:H纳米膜层,并对改性后材料表面化学及膜层晶体结构等进行表征.结果表明,通过控制TMS和O2两种单体流速比和沉积时间,可控制材料表面亲疏水性和SiOx:H纳米膜层厚度.反应沉积的SiOx:H具有非晶的结构.其最优化条件为;μ(TMS):μ(O2)=1:4,系统压力3.33Pa,D.C 5W,沉积时间4min.所制备的膜层厚度约为45nm,表面去离子水接触角为30～40°.SiOx:H纳米膜层改性NiTi合金表面可提高材料的抗腐蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈阳		1	2	1.0	1.0
2	王贵学		1	2	1.0	1.0
3	张勤		1	2	1.0	1.0
4	葛淑萍		1	2	1.0	1.0
5	唐朝君		1	2	1.0	1.0