MgF2红外材料的磁流变抛光性能实验及分析

• 作者: 冯之敬 左巍 张云 赵广木 辛科
• 来源期刊: 现代制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: MgF2 红外材料 磁流变抛光
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-3,9
• 页数: 4页
• 分类号: TH7
• 字数: 1655字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3133.2009.08.001

摘要

MgF2材料随着其热压成型及化学气相沉积(CVD)技术的成熟,凭借其优良的红外透射及机械性能,成为最有代表性的红外光学材料.该材料制成的高陡度非球面红外光学元件的发展给制造加工技术带来众多挑战.MgF2:材料磁流变抛光性能的研究对于探索高陡度元件的凹面抛光难题具有重要意义,结合磁流变抛光技术,对MgF2材料的抛光性能展开实验研究,与K9玻璃的抛光特性做对比,分析并优化其磁流变抛光工艺参数,证实磁流变抛光对MgF2:材料的有效性,并获得了4.5μm/min的抛光效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯之敬	清华大学精密仪器与机械学系	50	543	14.0	21.0
2	辛科	清华大学精密仪器与机械学系	5	18	3.0	4.0
3	赵广木	清华大学精密仪器与机械学系	16	205	7.0	14.0
4	张云	清华大学精密仪器与机械学系	16	142	6.0	11.0
5	左巍	清华大学精密仪器与机械学系	6	45	4.0	6.0