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摘要:
SiC肖特基源漏MOSFET的阈值电压不同于传统的MOSFET的阈值电压.在深入分析工作机理的基础上,利用二维模拟软件ISE提取并分析了器件的阈值电压.对SiC肖特基源漏MOSFET的阈值电压给出物理描述,得出当源极载流子主要以场发射方式进入沟道,同时沟道进入强反型状态,此时的栅电压是该器件的阈值电压.
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文献信息
篇名 SiC肖特基源漏MOSFET的阈值电压
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 碳化硅 肖特基接触 阈值电压
年,卷(期) 2009,(1) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 494-497
页数 4页 分类号 O4
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.01.077
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张玉明 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安电子科技大学微电子学院 9 23 3.0 4.0
2 张义门 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安电子科技大学微电子学院 10 25 3.0 4.0
3 汤晓燕 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安电子科技大学微电子学院 4 16 2.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
碳化硅
肖特基接触
阈值电压
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
论文1v1指导