衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响

• 作者: 仇满德 刘保亭 周阳 彭英才 李晓红 赵庆勋
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 射频磁控溅射 衬底温度 外延生长
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 735-738
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3325字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2009.05.009

摘要

在不同的衬底温度下,采用磁控溅射方法在蓝宝石(0001)衬底上制备了外延生长的ZnO薄膜.采用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、可见-紫外分光光度计系统研究了衬底温度对ZnO薄膜微观结构和光学特性的影响.AFM结果表明在不同村底温度制备的ZnO薄膜具有较为均匀的ZnO晶粒,且晶粒的尺寸随衬底温度的增加逐渐增大.XRD结果显示不同温度生长的ZnO薄膜均为外延生长,400℃生长的薄膜具有最好的结晶质量;光学透射谱显示在370nm附近均出现一个较陡的吸收边,表明制备的ZnO薄膜具有较高的质量,其光学能带隙随着衬底温度的增加而减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘保亭	河北大学物理科学与技术学院	84	302	10.0	13.0
2	李晓红	河北大学物理科学与技术学院	29	119	8.0	9.0
3	赵庆勋	河北大学物理科学与技术学院	54	254	10.0	13.0
4	彭英才	河北大学电子信息工程学院	103	593	12.0	19.0
5	周阳	河北大学物理科学与技术学院	21	130	7.0	11.0
6	仇满德	河北大学化学与环境科学学院	51	302	10.0	14.0