不同气氛下SiOx纳米线的制备及形貌、红外、光致发光研究

• 作者: 尉吉勇 郑立仁 黄柏标
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SiOx纳米线 碳辅助化学气相沉积法 傅里叶红外吸收 光致发光
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 核物理学
• 页码范围: 2306-2312
• 页数: 7页
• 分类号: O57
• 字数: 3696字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.04.029

摘要

以N2/H2、N2或NH3为载气,利用碳辅助化学气相沉积法,常压1140℃下在石英衬底上制备了大量直径为20-300 nm,长数百微米的非晶SiOx纳米线.制备得到的纳米线具有高度定向生长的特性.利用透射电子显微镜、扫描电子显微镜及电子能谱对SiOx纳米线的形貌及组分进行了分析,Si与O原子之比为1∶1.8.傅里叶红外吸收谱显示了非晶氧化硅的三个特征峰(482,806和1095 cm-1)及1132 cm-1无序氧化硅结构的强吸收峰.SiOx纳米线光致发光光谱(PL)在440 nm(2.83 eV)处具有较强的荧光峰;N2为载气生长的SiOx纳米线的PL峰强比NH3为载气生长的SiOx纳米线峰强大四个数量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄柏标	山东大学晶体材料国家重点实验室	47	364	10.0	17.0
2	尉吉勇	山东大学晶体材料国家重点实验室	10	29	4.0	5.0
6	郑立仁	泰山学院物理与电子科学系	7	25	3.0	5.0