氮化铜薄膜的研究

• 作者: 肖剑荣 蒋爱华
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铜薄膜 光学带隙 热稳定性 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2009,（21）
• 所属期刊栏目: 本期专题:薄膜材料
• 页码范围: 115-117
• 页数: 3页
• 分类号: TG146
• 字数: 3165字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.21.026

摘要

氮化铜(Cu_3N)薄膜是一种新型的电、光学材料,它具有典型的反三氧化铼结构,由于Cu原子没有很好地占据(111)晶格面的紧密位置.在薄膜中掺杂之后,薄膜的电、光学性质会发生显著变化.Cu_3N在较低温度下会分解为Cu和N_2.介绍了Cu_3N的制备方法,总结了该膜制备方法和工艺参数对薄膜结构的影响,分析了在不同N_2分压下薄膜由(111)晶面转向(100)晶面择优生长和薄膜定向生长的原因,讨论了薄膜的电学、光学、热学等物理性质及其在相关方面的应用,并对该膜的物理性质与结构之间的关系作了简要分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖剑荣	桂林理工大学理学院	30	37	4.0	4.0
2	蒋爱华	桂林理工大学理学院	15	26	3.0	4.0