PVD Si涂层用于SiC陶瓷的表面改性研究

• 作者: 唐惠东 谭寿洪
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: PVD Si涂层 RB SiC SSiC 表面粗糙度均方根RMS 反射率
• 年，卷（期）: 2009,（16）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 68-70
• 页数: 3页
• 分类号: TB383
• 字数: 2262字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.16.020

摘要

为了获得高质量的光学表面,采用RF磁控溅射法在RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVD Si涂层.采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率.结果表明,当RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆PVD Si涂层后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度的均方根RMS可达埃级,反射率提升幅度明显.并简单分析了反射率提高的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谭寿洪	中国科学院上海硅酸盐研究所	45	1121	20.0	33.0
2	唐惠东	常州工程职业技术学院材料工程技术系	30	93	5.0	7.0