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在Si-Ge晶体外延生长中的RHEED花样研究
在Si-Ge晶体外延生长中的RHEED花样研究
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
硅锗外延生长
反射式高能电子衍射
表面重构
透射式衍射花样
摘要:
在晶体衍射理论基础上,利用运动学理论解释了反射式高能电子衍射(reflection bigh energy electron diffraction,RHEED)在Si-Ce晶体外延生长过程中不同阶段出现的花样.尤其研究了晶体岛状生长之后出现的RHHED透射式衍射花样,并给出了相应的解释.解释了硅锗外延生长过程中的多晶环图案和孪晶衍射图案的含义,并给出各个生长阶段演化的工艺条件.
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文献信息
篇名
在Si-Ge晶体外延生长中的RHEED花样研究
来源期刊
物理学报
学科
物理学
关键词
硅锗外延生长
反射式高能电子衍射
表面重构
透射式衍射花样
年,卷(期)
2009,(11)
所属期刊栏目
凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向
页码范围
7765-7772
页数
8页
分类号
O4
字数
语种
中文
DOI
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透射式衍射花样
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
浙江省自然科学基金
英文译名:
官方网址:
http://www.zjnsf.net/
项目类型:
一般项目
学科类型:
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