SiO2单层膜的反常色散研究

• 作者: 刘小涵 尹少辉 朱华新 李香波 王彤彤 王珊珊 王笑夷 申振峰 郑宣明 陈红 高劲松
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 反常色散 等效折射率 变折射率
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 2006-2010
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 4174字
• 语种: 中文

摘要

利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1 m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致密膜层的变化不一致,表现出反常色散的现象.膜厚方向折射率变化周期越大,等效折射率随波长增加的趋势就越大,薄膜表现出的反常色散特性越明显.沿膜厚方向折射率变化幅度的对色散特性影响次之.