纳米硅薄膜及磁控溅射法沉积

• 作者: 冯敏鸽 刘本锋 潘震 赵青南
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米硅 薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2009,（23）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 30-33
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 字数: 4863字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.23.007

摘要

纳米硅薄膜具有卓越的光学和电学特性,其在光电器件方面潜在的应用越来越引起人们的兴趣.讨论了用磁控溅射法制备纳米硅薄膜的微观机理及沉积参数对薄膜结构和性能的影响.其中,氢气分压、基片温度、溅射功率是磁控溅射法沉积纳米硅的关键参数,适当的温度、较高的氢气分压和较低的溅射功率有利于纳米硅的生成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵青南	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	45	423	12.0	19.0
2	冯敏鸽	陕西科技大学材料科学与工程学院	10	21	2.0	4.0
3	刘本锋	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	1	11	1.0	1.0
4	潘震	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	1	11	1.0	1.0